自清潔織物整理材料的製備技術

可見光自清潔表面處理是採用正在迅速興起的納米技術開發的。在織物表面形成的摻雜二氧化鈦納米透明薄層具有很好的持久性。在可見光或者其他室內的光源的光催化過程中,這納米層可以幫助降解和去除污物、異味、細菌、有色沾污和有害的有機物,如甲醛和其他含碳的分子。

該產品可廣泛應用於棉、滌綸、尼龍和其他的天然和合成的纖維織物,如運動服、休閒系列的服裝、鞋類,也可用於室內裝飾的各類紡織品和皮革,如牆壁和傢俱用紡織品、地毯、窗簾、以及用於汽車、醫療、玩具等特殊用紡織品。

應用

自清潔整理技術適用於常規的織物浸軋方法及設備,一浸一軋﹙帶液率70-80%﹚,焙烘溫度120。C×2 min。

技術突破

  • 低溫節能應用工藝
  • 可使用於室溫到攝氏120度的溫度範圍
  • 粒子具有很好的原子排列-銳鈦礦,這排列加速粒子的催化能力
  • 利用可見光或其他室內的光源
  • 耐洗滌
  • 對皮膚無刺激
  • 成本低廉
  • 適用於紡織品,塑膠,木材,皮革等
  • 可用現有的紡織品製造設備,無需添加額外的特殊設備

潛在優點

自清潔整理整備技術及應用的非獨家專利授權許可。

研發成果現已公開向業界以非獨家專利授權許可形式推廣,有關查詢,請與我們聯絡。(電郵: info@hkrita.com ; 電話: (852) 2627 0180)