自清洁织物整理材料的制备技术

可見光自清潔表面處理是採用正在迅速興起的納米技術開發的。在織物表面形成的摻雜二氧化鈦納米透明薄層具有很好的持久性。在可見光或者其他室內的光源的光催化過程中,這納米層可以幫助降解和去除污物、異味、細菌、有色沾污和有害的有機物,如甲醛和其他含碳的分子。

該產品可廣泛應用於棉、滌綸、尼龍和其他的天然和合成的纖維織物,如運動服、休閒系列的服裝、鞋類,也可用於室內裝飾的各類紡織品和皮革,如牆壁和傢俱用紡織品、地毯、窗簾、以及用於汽車、醫療、玩具等特殊用紡織品。

应用

自清潔整理技術適用於常規的織物浸軋方法及設備,一浸一軋﹙帶液率70-80%﹚,焙烘溫度120。C×2分钟。

技术突破

  • 低温节能应用工艺
  • 可使用于室温到摄氏120度的温度范围
  • 粒子具有很好的原子排列 - 锐钛矿,这排列加速粒子的催化能力
  • 利用可见光或其他室内的光源
  • 耐洗涤
  • 对皮肤无刺激
  • 成本低廉
  • 适用于纺织品,塑胶,木材,皮革等
  • 可用现有的纺织品制造设备,无需添加额外的特殊设备

潜在优点

自清洁整理整备技术及应用的非独家专利授权许可。

研发成果现已公开向业界以非独家专利授权许可形式推广,有关查询,请与我们联络。 (电邮: info@hkrita.com ; 电话: (852) 2627 0180)