建构纺织生產过程中的基础水足跡模型

纺织及製衣业是其中一个消耗大量资源和能源的工业。基础水足跡模型(AWFM)计算纺织製衣业生產流程的水足跡。基础水足跡模型分硬件和软件两部分,用作计算多个製造过程所產生的水足跡,包括染色、印花和后整。这些工序均会大幅消耗水量,构成水污染。

硬件方面,安装在机台上的智能电錶监察和收集数据,以量度个別机台和製造过程的耗水量。软件方面,基础水足跡模型管理系统具备网络应用、数据记录与分析、人手输入耗水数据和系统分析的功能。用家只需要一个帐户,就能透过网上平台监察和管理多间工厂的数据。

应用

利用监察系统去掌握机台和染色等工序的运作时,系统软件能收集数据,就不同层面的耗水量和水强度製作报表,包括工厂层面、车间层面和机台层面,以及生產订单或批次层面。用户也能在不同层面选择不同的覆盖时间和数据来製作切合个別需要的报表。

技术突破

此创新且务实的水足跡披露方式,有效优化厂商在实践时的灵活性和成本效益,非常符合现时纺织业的特质及需求。

获取专利

研发成果现已公开向业界以非独家专利授权许可形式推广。有关查询,请与我们联络。(电邮: info@hkrita.com; 电话: (852) 2627 0180)